荷兰政府昨日宣布了关于浸没式 DUV 半导体设备出口的最新许可要求。

根据更新后的许可要求，并根据美国出口管理条例 734.4.(a).(3)，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV浸没式光刻系统。荷兰出口许可要求已适用于TWINSCAN NXT:2000i及后续DUV浸没式系统。ASML的EUV系统的销售也需遵守许可要求。**最新许可要求于2024年9月7日起生效。 **

简而言之，较先进的光刻机等设备，如果要出口到欧盟以外地区，必须获得荷兰的特别批准，而不是向美国政府申请出口许可证。

来源：【21ic电子网】https://mp.weixin.qq.com/s/c_gc9j6wU4TkEBb5ngN7WQ