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为什么研发EUV光刻机那么难?
#后端
#光刻机
虽然表面上看,光刻机是半导体制造的工具之一,但它的背后涉及复杂的多学科交叉与全球化合作。1. 极端紫外光源的挑战:就像寻找“完美的灯泡” 2. 多层镀膜反射镜:好比打磨“完美的镜子” 3. 高精度对准与纳米级误差:像把大象装进针孔里 4. 全球供应链协作:像拼接世界上最复杂的拼图 5. 高昂的研发成本与长期积累:有点像马拉松而非短跑 6. 专利与知识产权:好比绕开一片“雷区” 7. 人员与人才储备:就好像建造一支顶尖的“特种部队”
老虎说芯